光刻曝光与紫外线强度检测

光刻曝光技术利用紫外线原理对工业生产中一些物质的杂质的定域扩散进行加工。对于现在的光刻曝光技术来说极紫外线（EUV）快要适用了，那么设想接下来新一代的光刻会采用什么技术呢？是会有更短的波长？怎样监控其中的紫外线强度确保不会影响生产呢?

光刻曝光需要利用紫外线强度检测仪进行紫外线强度监控。就目前发展前景来看。下一代的光刻技术很有可能为电子束曝光，极限分辨率能达到2、3nm。在光学光刻曝光系统中，曝光辐射的波长是光刻工艺的关键参数。波长直接影响紫外线的能量强度。也就是说需要达到良好的光刻工艺，必须要有紫外线强度检测仪来对紫外线能量强度进行参照。

传统光刻曝光系统使用紫外光，会有干涉和衍射现象影响分辨率。虽如此，但还有继续发展下去的趋势。其中要想减少被市场上其他竞争产品的淘汰，首先在生产中就要注意利用紫外线强度检测仪使光刻曝光过程中保持良好的紫外照射强度，才能生产出有竞争力的产品。目前的光刻曝光技术有极深紫外光系统，但其系统复杂，最终也难以规避由于干涉衍射带来的分辨率限制。因此必须利用紫外线强度检测仪防止紫外光的强度过高对分辨率造成很大影响。

为什么光刻曝光技术会不断发展和越来越受欢迎呢？主要是因为传统系统中的缺陷不适应现代市场的发展需求。非光学光刻曝光系统有以下几种。X射线曝光系统：就商用X射线曝光设备来看，可以容忍的缺陷是图形畸变，但更严重的限制是半影模糊。离子束曝光系统：存在随机空间电荷问题，好处是不需要掩模。电子束曝光系统：存在电子的散射问题，好处是不需要掩模。X射线光刻的分辨率没有那么高。X射线光刻和紫外光刻的原理不同。X射线不能被折射，也没有好的反射材料，所以无法被聚焦。而且X射线的能量太高，会产生二次电子，这个限制了最小分辨率。所以就目前来说，光刻曝光技术的发展仍有不断上升的区间，且这个过程离不开紫外线强度检测仪的不断检测，确保紫外线能量的正常控制，光刻过程的正常进行和产品质量的最终保证。

光刻曝光技术的良好发展需要精确度高的紫外线强度检测仪与之相配合。林上的LS126C紫外线强度检测仪检测功能多样，可以显示多种数据，还可以显示强度的变化趋势，在功能应用和数据精确上都达到了行业标准的前列。在发展过程中不断与时俱进，更加贴合了顾客的要求。未来的光刻曝光技术发展会与紫外线强度检测仪相辅相成，互相促进。