真空镀膜机与高真空的关系

蒸发真空镀膜机工作时真空材料蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，镀膜层形成的速度高，膜层结合力强，成膜质量也好。

反之，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发真空镀膜机蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了膜层形成的速度，影响了膜的均匀性与结合力；另一方面，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。

因此，真空镀膜机需要在高真空条件下进行工作；当然，真空度也不需要绝对的高。事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。如果需要确保真空镀膜产品厚度的均匀性，可使用真空镀膜光密度在线测试仪来连续监控镀膜品质。

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